ヒールッシャー　「ナノ粒子分散用　超音波発生装置」

UP200は、従来機に比べPCとの連携もスムーズにでき、PCとブラウザがあれば簡単に出力・温度などのパラメータを表示し、グラフ化ができます。小型で、ハンディとスタンド固定のどちらにも対応。電源部と発振部を分離しているため、ジェネレータを安全エリアへ移動することが可能です。400Wながら、内部発熱が発生しないため、高出力の運転が可能。将来の量産化(UIP10000/10000Wなど)を目的とした初期研究に最適です。ワンボックスタイプの小型サイズで、場所を選ばず設置可能(100V)。最大16,000Wまでの大型機へのスケールアップが可能で、研究用途だけでなく、生産設備用としても対応します。

超音波プロセッサーUIP500hd（500W）および UIP1000hd（1,000W） は、内部コンバータの冷却用として空冷用ファンは一切必要としないため、完全密閉型構造になっています（高効率超音波の証明です）。プロセッサ本体はアルミニウム製で、フローセルを使用した連続液体処理に対応できます。目的にもよりますが、1時間あたり100リットルの液体処理が可能です。完全密閉型構造のため、クリーンルーム内での使用に非常に適しています。分散（固体粒子の液中への分散）・再凝集防止（ナノレベル粒子）・乳化（サブミクロン径）・抽出・脱気（液中気体の除去）等の液体処理に適しています。

超音波プロセッサーUIP2000hd（出力2,000W）は巨大なパワーを有しているにもかかわらず、完全密閉型構造になっています。カスケードソノトロードの採用、超音波照射面積の拡大ができ、プロセス用として最適なモデルです。分散（固体粒子の液中への分散）・再凝集防止（ナノレベル粒子）・乳化（サブミクロン径）・破砕・反応促進（接触反応における結晶の晶出・成長の促進）・洗浄等の液体処理に対応することができます。

超音波プロセッサーUIP4000（出力 4,000W）はUIP1000およびUIP2000で得た必要超音波出力量をプロセスラインに適用させる場合、最大のパワーを有しているため、スケールアップに適しています。プロセッサ本体はステンレス製で、電気ボックスは専用のキャビネットが標準品になります。工場内での設置時に外部からの粉塵・熱・活性ガス等の混入を防止します。分散（固体粒子の液中への分散）・再凝集防止（ナノレベル粒子）・乳化（サブミクロン径）・破砕・反応促進（接触反応における結晶の晶出・成長の促進）・洗浄・脱気（液中気体の除去）等に使用されます。

超音波システムUIP10000（出力10,000W）および UIP16000（出力16,000W）は超音波プロセッサのモデルの内で最大のものです。キャビネット内プロセッサ・電気ボックス・配管が一体型になっています。このクラスは、プロセッサの一部の冷却は水冷になりますが、硬音波効率は80％以上を常時保持することができます。